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Cu互連阻擋層研究

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Cu互連阻擋層研究

djxgreat創(chuàng)建于2011-11-11 最后編輯: 2011-11-11 11:11 9,079閱讀

Cu互連阻擋層研究

共 4 個(gè)文檔

pdf 集成電路CU互連工藝中W基擴(kuò)散阻擋層研究

集成電路CU互連工藝中W基擴(kuò)散阻擋層研究

作者: Hemuchengxi
2011-05-08
格式: PDF

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pdf 集成電路銅互連工藝中先進(jìn)擴(kuò)散阻擋層的研究(博士論文)

隨著集成電路器件尺寸的持續(xù)縮小,互連延遲越來越成為制約集成電路發(fā)展的瓶頸問題。在32nm及以下技術(shù)節(jié)點(diǎn),互連工藝中磁控濺射制備的Ta/TaN雙層結(jié)構(gòu)擴(kuò)散阻擋層和銅籽晶層由..

作者: 948265406
2011-04-13
格式: PDF

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pdf 集成電路銅互連中鉭硅氮擴(kuò)散阻擋層的制備及其阻擋特性研究

集成電路銅互連中鉭硅氮擴(kuò)散阻擋層的制備及其阻擋特性研究

作者: DodoDown
2010-04-15
格式: PDF

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pdf 新一代集成電路Cu互連用Ta基擴(kuò)散阻擋層的制備及特性研究

暫無描述

作者: 拉拉
2011-05-03
格式: PDF

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